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    JS-600M小型磁控溅射仪

    JS-600M小型磁控溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,带磁控靶头,有水冷功能。设备操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。磁控溅射为冷溅射,对样品表面的升温较低,适用对温度较敏感的薄膜样品。用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。

    更新时间:2024-03-28型号:JS-600M浏览量:1540
  • JS-600M薄膜制备小型磁控溅射仪
    JS-600M薄膜制备小型磁控溅射仪

    JS-600M薄膜制备小型磁控溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,带磁控靶头,有水冷功能。设备操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。磁控溅射为冷溅射,对样品表面的升温较低,适用对温度较敏感的薄膜样品。用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。

    更新时间:2024-03-28型号:JS-600M浏览量:738
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    JS-600M低温溅射小型磁控溅射仪

    JS-600M低温溅射小型磁控溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,带磁控靶头,有水冷功能。设备操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。磁控溅射为冷溅射,对样品表面的升温较低,适用对温度较敏感的薄膜样品。用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。

    更新时间:2024-03-28型号:JS-600M浏览量:766
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    JS-600M1600V二极磁控溅射仪

    1600V二极磁控溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,带磁控靶头,有水冷功能。设备操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。磁控溅射为冷溅射,对样品表面的升温较低,适用对温度较敏感的薄膜样品。用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。最高电压1600V,保证在较高的真空环境下,维持自持放电。

    更新时间:2024-03-28型号:JS-600M浏览量:649
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