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JS-1600小型离子溅射仪采用成熟稳定的二极（DC）直流溅射原理设计，以简洁操作、可靠性能与灵活适配性，成为扫描电子显微镜（SEM）样品制备、非导体材料实验电极制作的理想配套设备。仪器兼顾实验室桌面使用需求与大样品处理能力，从基础科研到常规检测场景均可稳定胜任，为高质量导电镀膜与薄膜沉积提供标准化解决方案。
核心设计与应用优势
该设备以直流二极溅射为核心工作机制，在真空环境下通过电场加速离子轰击靶材，使金属原子均匀沉积于样品表面，形成致密、连续、导电性能优异的薄膜。整机操作流程简化，无需复杂调试，用户可根据实验要求自主设定真空条件与溅射电流，快速获得稳定可重复的镀膜效果。大尺寸真空腔体是该设备的突出亮点，有效突破常规小型设备的样品尺寸限制，满足大样品溅射需求，大幅提升实验通量与适用范围。设备标配一片99.999% 超高纯金靶，从源头保障膜层纯度与成膜质量，为 SEM 成像、电极制备等关键环节提供高品质基础条件。
关键技术指标
靶材（上部电极）：标配高纯金靶，直径 50mm、厚度 0.1mm，纯度达 99.999%，成膜均匀性与导电性优异。
真空室：直径 160mm、高度 120mm，大腔体设计兼容大尺寸与多数量样品处理。
样品台（下部电极）：面积直径 50mm，适合大样品的溅射。
工作真空：8×10⁻²—2×10⁻¹ mbar，适配空气 / 氩气两种工作介质，灵活满足不同实验需求。
离子电流：标配 50mA 离子电流表，溅射电流清晰直观。
数显计时：支持自定义单次溅射时间，操作直观、过程可控。
工作电压：-1600VDC，保障稳定直流溅射电场。
真空系统：配置VRD-4飞越真空泵，抽速快、建压稳、噪音低。
气路控制：配备氩气专用进气口与微量充气调节阀，支持 φ4×2.5mm 软管连接。
外形尺寸：360mm×300mm×380mm，桌面式紧凑布局，节省实验室空间。
扩展适配与实用价值
除标配金靶外，还可兼容金、铂、银、氧化锌等多种靶材，为用户提供更多材料选择与功能扩展空间。JS-1600小型离子溅射仪以稳定的直流溅射、友好的操作界面、可靠的真空系统与大腔体兼容设计，全面覆盖材料科学、物理、化学、电子、生物等领域的 SEM 样品导电处理、非导体电极制备、表面改性等应用。整机结构坚固、维护简便、运行稳定，是科研院所、高校实验室、企业质检与研发部门提升制样效率、保障检测精度的高效工具。
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