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低温溅射小型磁控溅射仪

简要描述:JS-600M低温溅射小型磁控溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,带磁控靶头,有水冷功能。设备操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。磁控溅射为冷溅射,对样品表面的升温较低,适用对温度较敏感的薄膜样品。用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。

  • 产品型号:JS-600M
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-02-20
  • 访  问  量:464
详情介绍

一、产品应用:

JS-600M低温溅射小型磁控溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,带磁控靶头,有水冷功能。设备操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。

磁控溅射为冷溅射,对样品表面的升温较低,适用对温度较敏感的薄膜样品。用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。标配一片金靶,纯度为99.999%,为获得高质量的金膜提供了良好的基础。

二、配置及技术指标:

1.本系统装配了水冷却磁控靶,靶面直径为50mm;

2.主机规格:L360mm*W300mm*H380mm;

3.靶(上部电极):金:直径:50mm,厚度:0.1mm;

4.真空样品室:直径:160mm,高:110mm;

5.溅射面积:Ф50mm;

6.工作真空:2×10-1—6×10-2 mbar;

7.离子电流表:0-100mA;

8.定时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间;

9.针阀: 配有进气口,微量充气调节,可连接φ4*2.5mm软管;

10.工作室工作媒介气体:空气或氩气等多种气体;

11.溅射电压:-1600 DCV;

12.飞跃真空泵(VRD-4):1.1L/S。

三、JS-600M低温溅射小型磁控溅射仪产品特点:

1.轻便、溅射面积大;

2.可以溅射铂、金及银等金属;

3.溅射效率高,可水冷降温;

备注:JS-600M小型磁控溅射仪可适用的靶材:金、铂、银。



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